X光繞射與應用(第二版) [盧天惠編著] 9789866507908

自從晶體學計算機程式被廣泛應用以來，雖然減輕晶體學者的負擔，但是如何判斷程式計算的過程是對的，則必須具備晶體學的知識，才有信心而竟其功。本書幫讀者消除晶體學的困惑，充實讀者的信心，解決研究上的問題。

第二版除了改正第一版缺點外，也將原先第一版附錄併入第7章，公式編排重新制定。文書的語句力求通順；內容循序漸進、力求完整；編排一致，前後連貫；儘量做到零缺點的地步。

頁數：400
版次：第2版
年份：2011年
規格：18開/平裝/單色
ISBN：9789866507908

第1篇 基本原理
第1章 X光
第2章 X光繞射
第3章 對稱運算與空間群
第2篇 基礎科學的應用
第4章 勞厄繞射與單晶的定向
第5章 實驗數據的取得
第6章 單晶結構
第7章 蛋白質晶體學
第3篇 材料科學的應用
第8章 粉晶結構